技術(shù)編號：2813058
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及檢測電子束曝光系統(tǒng)中所用掩膜缺陷的檢測裝置和方法，該曝光系統(tǒng)可以使用電子束實現(xiàn)圖案復(fù)制。通常使用向掩膜發(fā)射激光的方法，把通過掩膜的透射光或它的反射光產(chǎn)生的圖案與參考圖案進行比較來檢測掩膜的缺陷是一種眾所周知的在電子束曝光系統(tǒng)中使用的檢測掩膜缺陷的方法。但是，當(dāng)檢測最新電子束曝光系統(tǒng)中所用的金屬膜片掩膜或膜片掩膜的缺陷時，激光不透過膜片。因此，沒有辦法只好使用反射光。使用激光的反射光很容易檢測掩膜的缺陷。但是，膜片掩膜的散射重金屬的膜厚是很薄的。它...
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