技術(shù)編號(hào)：2812136
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于納米結(jié)構(gòu)加工領(lǐng)域，涉及一種帶有自凈化空氣過濾系統(tǒng)的超分辨i線光刻裝置。背景技術(shù)光刻裝置是一種用于微細(xì)結(jié)構(gòu)復(fù)制加工的高精密設(shè)備。隨著半導(dǎo)體電子工業(yè)的不斷發(fā)展， 芯片上加工圖形的集成度也越來越高。傳統(tǒng)的光刻裝置由于存在衍射極限的限制，要想提高 其光刻分辨率就必須提高光刻的數(shù)值孔徑或采用波長更短的光刻光源。浸沒式光刻裝置和極紫外光刻裝置都能實(shí)現(xiàn)ioo納米以下光刻分辨率要求，但是它們都有著極為苛刻的技術(shù)要求，因此也有著昂貴的價(jià)格，很難得到普及。超分辨光刻...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。