技術(shù)編號：2812134
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體版圖布局，尤其涉及一種光罩框架Mask Frame 的自動布局技術(shù)。 背景技術(shù)半導(dǎo)體制造的過程中，光刻工藝是最重要的電路圖形轉(zhuǎn)移工藝。其中，光 罩Mask是實(shí)現(xiàn)光刻工藝的重要材料，可以用于刻制半導(dǎo)體芯片的電路版圖。在 半導(dǎo)體代工加工模式中，集成電路IC設(shè)計(jì)公司負(fù)責(zé)設(shè)計(jì)芯片數(shù)據(jù)，半導(dǎo)體芯片 的代工廠Foundry負(fù)責(zé)設(shè)計(jì)Mask Frame數(shù)據(jù)，最后由光罩公司Mask Shop將所 述芯片數(shù)據(jù)與Mask Frame數(shù)據(jù)合并，制作出Mask在F...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。