技術(shù)編號：2812041
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于微納制造，具體涉及一種在電場的誘導(dǎo)下， 利用模板約束電場分布，制造微米級或者納米級結(jié)構(gòu)的微復(fù)型方法。 背景技術(shù)傳統(tǒng)的光學(xué)投影光刻工藝采用x射線、紫外線等，透過具有一定圖形結(jié)構(gòu)的掩模板進(jìn)行可控制曝光，將掩模板上的圖形轉(zhuǎn)移至預(yù)先涂 鋪在基材上并烘干的阻蝕膠層。最后通過化學(xué)藥劑顯影，得到圖形化 的阻蝕膠層。傳統(tǒng)的光學(xué)投影光刻技術(shù)由于已經(jīng)在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域得 到了成熟的發(fā)展，因此一直在微納制造領(lǐng)域占據(jù)著統(tǒng)治地位。但是由 于微納制造技術(shù)不斷向更小的尺寸發(fā)展，...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。