技術編號：2811587
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種掩膜表面化學處理方法及系統(tǒng)，特別是涉及一種新式 的掩膜表面化學減量處理方法。背景技術制備掩膜的過程中會引發(fā)不同種類，且難以移除的掩膜污染物，例如 化學污染物。而目前的清潔方法多半不能有效地移除這些污染物，甚至還 會進一步損壞掩膜，特別是形成在掩膜表面，材質為硅化鉬或鉻的圖案化 吸收材質層。因此需要提供一種新式的掩膜表面化學減量處理方法，來有效移除掩 膜污染物。由此可見，上述現(xiàn)有的掩膜表面化學處理方法及系統(tǒng)在方法以及使用 上，顯然仍存在有不便與...
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