技術(shù)編號：2811428
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明是有關(guān)于一種半導(dǎo)體集成電路光刻生產(chǎn)設(shè)備中的信號釆集與解調(diào)裝 置，且特別是有關(guān)于一種對準(zhǔn)光強(qiáng)信號采集與解調(diào)裝置。背景技術(shù)在集成電路IC或其它微型器件的制造過程中，通過光刻裝置，將具有不同掩模圖案的多層掩模在精確對準(zhǔn)下依次成像在涂覆有光刻膠的硅片上，例如半導(dǎo)體硅片或LCD板。光刻裝置的對準(zhǔn)系統(tǒng)，其主要功能是在套刻曝光前實現(xiàn)掩 模-硅片對準(zhǔn)，以滿足套刻精度的要求。目前，光刻設(shè)備大多所采用的對準(zhǔn)裝置為光4冊對準(zhǔn)系統(tǒng)，如附圖1所示， 該光柵對準(zhǔn)裝置包括、照明系...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。