技術(shù)編號：2811393
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及光刻裝置，特別是一種探針誘導(dǎo)表面等離子體共振光刻裝置及其光 刻方法。背景技術(shù)隨著納米加工、微電子機械系統(tǒng)(MEMS)、集成電路等技術(shù)的迅速發(fā)展，為 其服務(wù)的光刻技術(shù)也成了各國研究的焦點。在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中應(yīng)用的光刻技術(shù)正沿著 UV-DUV-EUV的技術(shù)路線快速發(fā)展，在一定程度上滿足了微納器件特征尺度進一 步縮小的要求。然而，在納米加工、MEMS和一些特殊集成電路方面，由于產(chǎn)品個 性化、小批量和更新周期變短等特點，無法使用大規(guī)模集成電路所采用的技術(shù)進行...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。