技術(shù)編號(hào)：2810255
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種通過投影光學(xué)系和液體對(duì)基板進(jìn)行曝光的曝光 裝置、使用該膝光裝置的器件制造方法、及膝光裝置的控制方法。背景技術(shù)半導(dǎo)體器件或液晶顯示器件通過將形成于掩模上的圖形轉(zhuǎn)印到 感光性基板上的所謂的光刻方法制造。該光刻工序使用的曝光裝置具 有支承掩模的掩模臺(tái)和支承基板的基板臺(tái)， 一邊依次移動(dòng)掩模臺(tái)和基 板臺(tái)， 一邊通過投影光學(xué)系將掩模的圖形轉(zhuǎn)印到基板。近年來，為了 應(yīng)對(duì)器件圖形的更進(jìn)一步的高集成化，希望獲得投影光學(xué)系的更高的 析像度。使用的膝光波長越短、投...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。