技術(shù)編號(hào)：2807986
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種光刻機(jī)物鏡點(diǎn)光源工作條件下雜光系數(shù)測(cè)試方法、測(cè)試裝置，該裝置基于紫外193nm和可見光能量分布探測(cè)，屬于光電測(cè)試。技術(shù)背景光刻物鏡成像性能的好壞直接關(guān)系到光刻晶片的成敗。而影響光刻物鏡成 像性能的技術(shù)指標(biāo)，主要有雜光、(像面)照度分布及其分辨率或光學(xué)傳遞函數(shù)。 由于紫外光刻物鏡調(diào)制傳遞函數(shù)的截止頻率極高，直接測(cè)量其MTF極其困難， 往往通過采取實(shí)拍高分辨線條的照片來進(jìn)行鑒定。對(duì)于多達(dá)數(shù)十片鏡片組成的 光刻物鏡，雜光與照度分布對(duì)其成像性能的影響...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。