技術(shù)編號(hào)：2806408
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種紫外光刻(曝光)機(jī)的技術(shù)改進(jìn)方法，特別是用于接觸/接近式大面積紫外均勻輻照光刻(曝光)的方法及其實(shí)現(xiàn)該方法的裝置。有效均勻輻照面積與曝光均勻度是紫外光刻(曝光)機(jī)的兩個(gè)重要技術(shù)指標(biāo)。已有的紫外光刻(曝光)機(jī)因其用途不同，或者是曝光分辨率高而其有效均勻輻照面積較小，其等面積正方形對(duì)角線長(zhǎng)度一般在6吋之內(nèi);或者是有較大的輻照面積而其曝光均勻度很差，其曝光不均勻度≥±10%。諸如上海光學(xué)機(jī)械廠生產(chǎn)的JKG型φ75光刻機(jī)、機(jī)械電子工業(yè)部第十三研究所研...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。