技術(shù)編號：2803876
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種距離檢測設(shè)備，具體涉及，它主要是為調(diào)平調(diào)焦系統(tǒng)提供精確硅片表面的高度值，并計算出其距離焦平面的距離。背景技術(shù)光刻裝置(光刻機)是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的重要設(shè)備之一。集成電路工業(yè)的發(fā)展，很大程度上依賴于核心設(shè)備一光刻機的發(fā)展。隨著集成電路的集成度不斷提高，單線條尺寸要求越來越小，這對光刻機的分辨率提出了更高的要求。光刻分辨率的提高，導(dǎo)致焦深不斷變小，并且隨著集成電路尺寸的不斷擴大，硅片表面形貌也將影響焦點是否位于光刻面，為了充分利用光刻機的有效焦...
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