技術編號：2802975
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及光刻，特別是一種光刻照明系統(tǒng)。背景技術隨著微電子產業(yè)的迅猛發(fā)展，極大規(guī)模集成電路的加工設備一高端掃描光刻機的研制成為迫切的需求。照明系統(tǒng)可以為光刻機提供高均勻性照明、控制曝光劑量和實現(xiàn)離軸照明，從而提高光刻分辨率和增大焦深，是光刻機的重要組成部分。因此照明系統(tǒng)的性能直接影響著光刻機的性能。先技術[1](參見Mark Oskotsky, Lev Ryzhikov 等 Advanced illuminationsystem for use in m...
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