技術編號：2798466
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及電子照相感光構件和電子照相設備。 背景技術作為在電子照相設備中使用的電子照相感光構件類型，廣泛地已知具有由非晶硅構成的光導電層(感光層)和設置于光導電層上并由氫化非晶碳化硅構成的表面層的電子照相感光構件。由非晶硅構成的光導電層和由氫化非晶碳化硅構成的表面層通過例如成膜技術如等離子體CVD形成。下文中，非晶硅也稱作“a-Si”，由a-Si構成的光導電層也稱作 “a-Si光導電層”，和具有此類a-Si光導電層的電子照相感光構件也稱作“a-Si電子照相...
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