技術(shù)編號(hào)：2797894
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。表面保護(hù)薄膜技術(shù)區(qū)域本發(fā)明涉及一種具有剝離性的表面保護(hù)薄膜，特別是涉及一種適合 用于在印制電路板制作工序等中對(duì)具有粘著性的光致抗蝕劑進(jìn)行曝光時(shí) 的原稿(光刻掩膜)的表面的表面保護(hù)薄膜。背景技術(shù)通常，印制電路布線板或樹脂凸版是通過向液狀光致抗蝕劑等具有 粘著性的光致抗蝕劑粘附并曝光光刻掩膜(曝光用原稿)來制成的。因 此，若在光刻掩膜表面不進(jìn)行某些處理，則曝光完了后，在從光致抗蝕 劑剝離光刻掩膜時(shí)，部份的光致抗蝕劑將會(huì)附著在光刻掩膜表面，即使 擦拭，仍會(huì)殘留在...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。