技術(shù)編號(hào)：2795965
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種用于產(chǎn)生掩模數(shù)據(jù)的方法、用于制造掩模的方法和曝光方法。背景技術(shù)曝光裝置被用在用于制造集成電路(IC)、大規(guī)模集成電路(LSI)和其它半導(dǎo)體器件的工藝中。曝光裝置用照射設(shè)備照射掩模(中間掩模)，并通過(guò)使用投射光學(xué)系統(tǒng)將繪制在掩模上的圖案的圖像投射到襯底(晶片)上，以用于襯底曝光。在用于改進(jìn)曝光裝置的分辨率性能的技術(shù)之中有一種超分辨率技術(shù)。根據(jù)該技術(shù)，例如，本身不解析(resolve)圖像的輔助圖案形成在掩模上。這樣的掩模然后被用于解析將形成在襯...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。