技術(shù)編號(hào)：2794459
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明是有關(guān)于一種以微米級(jí)圖案化(patterning)的分子薄膜的制造方法，且特別是有關(guān)于一種光學(xué)元件制造方法，可在薄膜的平面內(nèi)或是薄膜的膜厚方向，保持色與屈折率等的分布。這些方法，保持由高分子薄膜內(nèi)任何機(jī)能的機(jī)能材料，會(huì)分散微粒子(顏料、高屈折率材料等)、分子(染料等)、或是其它種類的高分子等，而可制作均勻分散膜。但是，高分子薄膜，由于使用旋涂法均勻形成，于薄膜的內(nèi)面或是薄膜的膜厚方向，無法一面要保持濃度分布，而又要有連續(xù)的濃度變化。機(jī)能性材料的濃度，...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。