技術(shù)編號：2792910
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光刻領(lǐng)域，尤其涉及一種硅片對準(zhǔn)系統(tǒng)的焦面校準(zhǔn)方法。背景技術(shù)使用反射式光柵進(jìn)行硅片對準(zhǔn)的光學(xué)對準(zhǔn)系統(tǒng)(下面簡稱WA)中，需要保證對準(zhǔn)測量過程在該光學(xué)系統(tǒng)的焦面(下面簡稱WA焦面)進(jìn)行，這樣才能得保證對準(zhǔn)結(jié)果的準(zhǔn)確性。當(dāng)標(biāo)記不在焦面上進(jìn)行對準(zhǔn)時，會有如下現(xiàn)象標(biāo)記在焦面上，但與焦面存在傾角吋，不會影響對準(zhǔn)位置，只會影響對比度；標(biāo)記不在焦面上，但標(biāo)記與焦面平行，無傾角，不會影響對準(zhǔn)位置，只會影響對比度。 當(dāng)標(biāo)記不在焦面上，且與焦面存在傾角時，會產(chǎn)生對準(zhǔn)偏...
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