技術(shù)編號：2791017
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及65納米集成電路制造工藝和版圖設(shè)計，具體涉及一種基于 Cell的層次化光學(xué)鄰近效應(yīng)校正(Optical Proximity Correction, 0PC)方法。背景技術(shù)集成電路(Integrated Circuit, IC)制造技術(shù)按照甚至超過摩爾定律以每18 個月集成度提高一倍的速度快速發(fā)展。但當(dāng)集成電路的特征尺寸降到100納米以下的時 候，IC制造技術(shù)遇到了空前的挑戰(zhàn)，其中一個重要的方面來自于制造中的光刻環(huán)節(jié)。芯片 特征尺寸已經(jīng)減小到小于光...
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