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光刻裝置和器件制造方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):2790720

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本發(fā)明涉及一種光刻裝置和一種器件制造方法。 背景技術(shù)光刻裝置是可在襯底、通常是襯底的目標(biāo)部分上施加所需圖案的機(jī)器。光刻裝置 例如可用于集成電路(IC)的制造中。在這種情況下,可采用圖案形成裝置來(lái)產(chǎn)生將形成于 IC的單個(gè)層上的電路圖案,該圖案形成裝置也稱為掩?;蚍謩澃?。該圖案可被轉(zhuǎn)移到襯底 (如硅晶片)上的目標(biāo)部分(例如包括一個(gè)或多個(gè)管芯)上。圖案的轉(zhuǎn)移通常借助于成像 到設(shè)于襯底上的一層輻射敏感材料(抗蝕劑)上來(lái)實(shí)現(xiàn)。通常來(lái)說(shuō),單個(gè)襯底包含被連續(xù) 地形成圖案...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。

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