技術(shù)編號：2788871
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及對由電光晶體材料構(gòu)成的開關(guān)元件進(jìn)行驅(qū)動來生成規(guī)定的明暗圖案，并將該明暗圖案曝光在被曝光體上的曝光裝置，詳細(xì)來說，涉及對曝光位置進(jìn)行模擬控制來提高曝光圖案的定位精度的曝光裝置。背景技術(shù)現(xiàn)有技術(shù)的這種曝光裝置，通過將由電光晶體材料構(gòu)成的多個開關(guān)元件在二維平面內(nèi)進(jìn)行排列而成的圖案產(chǎn)生器，來生成規(guī)定的圖案，并對正在向一個方向輸送的被曝光體曝光該圖案，上述圖案產(chǎn)生器，在被曝光體的輸送方向以規(guī)定間隔配置多列開關(guān)元件列，并且將相鄰的開關(guān)元件列彼此在與被曝光體的...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。