技術(shù)編號(hào)：2788804
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種用于制造具有橫向圖案的多層結(jié)構(gòu)的方法，尤其是應(yīng)用于電磁輻射波長處于O. Inm到IOOnm之間波長范圍內(nèi)的光學(xué)器件的光柵的制造方法，該方法包括以下步驟(i)設(shè)置多層結(jié)構(gòu)，以及(ii)在該多層結(jié)構(gòu)中布置橫向圖案。背景技術(shù)O. Inm到10 μ m之間的波長范圍包括硬X射線范圍(波長在O. Inm到IOnm之間)和所謂的XUV范圍(波長在IOnm到IOOnm之間)，該XUV范圍包括在文獻(xiàn)中被稱為EUV輻射的13. 5nm波長附近的范圍以及電磁波譜...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。