技術(shù)編號：2783259
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及用于處理基板的設(shè)備和方法，具體涉及用于光刻的烘焙裝置以及用于冷卻該烘焙裝置中所使用的加熱板的方法。背景技術(shù) 通常，通過例如清洗、沉積、光刻、蝕刻和離子植入等各種過程來制造半導(dǎo)體器件。光刻過程用于形成圖案，該過程對于半導(dǎo)體器件的集成來說是很重要的。用于進行光刻的系統(tǒng)包括涂布裝置、曝光裝置、顯影裝置以及烘焙裝置。在將晶片順序輸送至烘焙裝置、涂布裝置、烘焙裝置、曝光裝置、烘焙裝置、顯影裝置以及烘焙裝置的時候，在該晶片上進行上述光刻。所述烘焙裝置包括用于...
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