技術編號：2781413
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及光學光刻，尤其涉及一種可曝出微小孤立通孔圖案的相位移掩模及其制作方法。背景技術 在集成電路工藝中，光刻工藝(lithographic process)已成為不可或缺的技術，同時，光刻工藝也是限制特征尺寸(feature size)的主要因素。藉由光刻工藝，半導體制造者才能夠順利將電子電路布局圖案精確且清晰地轉移至半導體晶片上。光刻工藝主要是先將設計的圖案，諸如電路圖案或者是注入?yún)^(qū)域布局圖案等，形成于一個或多個掩模上，然后再藉由曝光將掩模上的圖案利...
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