技術(shù)編號：2780513
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種微影技術(shù)(photolithography)，以及更特別地是有關(guān)于一種光掩模及一種使用該光掩模以制造圖案的方法，其中該光掩模減少了在其上所形成的圖案間的臨界尺寸(criticai dimension)的差異。背景技術(shù) 如本領(lǐng)域技術(shù)人員所熟知，微影技術(shù)是一種用以促成一半導(dǎo)體元件的高度集成化的基本技術(shù)，在該微影技術(shù)中具有指定形狀的圖案使用光而形成于一晶片基板上。亦即，從一曝光裝置將光(例如紫外線、電子束或X射線)照射在一要形成絕緣膜或?qū)щ娔さ膱D案...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。