技術(shù)編號(hào):2778929
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及投影光刻機(jī)的調(diào)焦調(diào)平傳感器與調(diào)焦調(diào)平技術(shù),特別是一種具有投影光柵和探測(cè)光柵的調(diào)焦調(diào)平傳感器。背景技術(shù)在集成電路制造設(shè)備中,用于光學(xué)光刻的投影光刻機(jī)是公知的。在投影光刻機(jī)中,曝光光束照明刻有集成電路圖形的掩模,掩模經(jīng)過(guò)投影物鏡成像在基板上,使涂覆在基板上的光刻膠被曝光,從而將掩膜圖樣復(fù)制到基板表面。集成電路集成度的提高要求不斷縮小光刻特征尺寸,光刻特征尺寸的縮小依賴于投影光刻機(jī)光刻分辨率的提高??s短曝光波長(zhǎng)和增大投影物鏡的數(shù)值孔徑是提高光刻分辨率最...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。