技術編號：2778738
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及電子束曝光過程樣片步進定位誤差補償系統(tǒng)。背景技術 在電子束曝光機的分場拼接曝光過程中，被加工的樣片的步進移動距離的準確性決定了場拼接曝光質(zhì)量的優(yōu)劣。上述的樣片步進距離是在閉環(huán)測量控制系統(tǒng)驅(qū)動下由樣片臺沿著曝光場的X和Y方向的運動而獲得的。但是由于樣片臺本身的慣性、機械摩擦以及為了提高生產(chǎn)效率而使用較高的樣片臺運動速度等原因，樣片的實際步進距離和理想的移動距離之間會產(chǎn)生數(shù)個微米的偏差。為了解決這個偏差，通常采取兩種措施。第一是進一步縮小PID閉環(huán)控...
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