技術編號：2778221
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。改變光譜范圍電磁輻射場、 尤其是激光輻射場的裝置和方法本發(fā)明涉及改變光謙范圍電磁輻射場、尤其是激光輻射場的裝置 和方法。本發(fā)明還涉及制造這種裝置的方法。在當前情況下光譜范圍電磁輻射場應解釋為電磁輻射可在光學 功能界面上被折射。它除了涉及可見光范圍外還涉及近、中和遠紅外 范圍以及紫外線范圍，直至真空-紫外線范圍。當光譜范圍電磁輻射場、尤其是激光輻射場應被成像或聚焦到一 個工作面中的時候，大都應用諸如透鏡等折射件。在工作面內激光輻 射場的強度分布在此受到所用透...
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