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減輕用于動態(tài)光刻的空間光調(diào)制器中的缺陷影響的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:2777847

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本發(fā)明一般地涉及光刻,更具體地說,本發(fā)明涉及動態(tài)光刻系統(tǒng)。背景技術(shù) 光刻是將圖樣或圖像轉(zhuǎn)移到襯底上的方法。光刻的一些工業(yè)應(yīng)用包括產(chǎn)品制造,所述產(chǎn)品例如平板顯示器、集成電路(IC)、IC封裝、平面光波回路(光子學(xué))、印刷線路板、柔性電路/顯示器和晶片凸起(waferbumping)。在其最簡單的形式中,光刻系統(tǒng)是通過使光穿過置于襯底上方的掩模或工具而工作的,所述襯底具有例如光刻膠層的光敏表面。通常,掩模由表面上刻有固定不透明圖樣的透明材料形成。由于襯底表面的...
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