技術(shù)編號(hào)：2777524
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及在采用了液浸法的投影曝光裝置中被使用的光學(xué)元件和使用了該光學(xué)元件的曝光裝置，其中，所述液浸法用于在制造例如半導(dǎo)體器件、攝像元件(CCD等)、液晶顯示元件或薄膜磁頭等的器件用的光刻工序中將掩模圖形轉(zhuǎn)印到感光性的基板上。背景技術(shù) 在制造半導(dǎo)體元件等時(shí)，使用了將作為掩模的中間掩模的像經(jīng)投影光學(xué)系統(tǒng)轉(zhuǎn)印到作為感光性的基板的被涂敷了抗蝕劑的晶片(或玻璃板等)上的各拍攝區(qū)域上的投影曝光裝置。以前大多使用了”步進(jìn)和重復(fù)”方式的縮小投影型的曝光裝置(步進(jìn)器)作為...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。