技術(shù)編號(hào)：2777196
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種用液體充滿投影光學(xué)系與基板之間的至少一部分、經(jīng)由投影光學(xué)系和液體將圖形曝光到基板的曝光裝置及使用該曝光裝置的器件制造方法。背景技術(shù) 半導(dǎo)體器件或液晶顯示器件通過將形成于掩模上的圖形轉(zhuǎn)印到感光性基板上的所謂的光刻的方法制造。該光刻工序使用的曝光裝置具有支承掩模的掩模臺(tái)和支承基板的基板臺(tái)，一邊依次移動(dòng)掩模臺(tái)和基板臺(tái)，一邊通過投影光學(xué)系將掩模的圖形轉(zhuǎn)印到基板。近年來，為了應(yīng)對器件圖形的更進(jìn)一步的高集成化，希望獲得投影光學(xué)系的更高的析像度。使用的曝光...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。