技術(shù)編號：2776795
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及適于在顯微光刻術(shù)的投影曝光裝置的物鏡中使用的傳輸光學(xué)元件以及顯微光刻術(shù)的投影曝光裝置中的物鏡。本發(fā)明特別涉及具有至少一個光學(xué)元件的物鏡。背景技術(shù) 顯微光刻術(shù)的投影曝光裝置用來產(chǎn)生半導(dǎo)體設(shè)備和其它精密結(jié)構(gòu)部件、如集成電路或LCD。這樣的投影曝光裝置不僅包括用于光掩膜或分度線照明的光源和照明系統(tǒng)，還包括投影物鏡，它將分度線圖案投影到光敏襯底(如已被涂上光刻膠的硅片)上。迄今為止，特別是如下三種方法已被接受以產(chǎn)生數(shù)量級小于100nm的更小結(jié)構(gòu)首先，試圖...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。