技術(shù)編號：2776247
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種包括曝光系統(tǒng)和測量系統(tǒng)的光刻投影裝置，該曝光系統(tǒng)包括-用于提供輻射投射光束的輻射系統(tǒng)；-用于支撐構(gòu)圖部件的支撐結(jié)構(gòu)，所述構(gòu)圖部件用于根據(jù)所需的圖案對投射光束進行構(gòu)圖；-用于保持第一基底的基底臺；-用于將帶圖案的光束投射到第一基底的目標部分上的投影系統(tǒng)，該投影系統(tǒng)包括用于控制投射到第一基底的目標部分上的投影控制裝置；以及-用于移動曝光系統(tǒng)的可移動部分使帶圖案的光束可相對于第一基底移動的第一控制裝置，測量系統(tǒng)包括-用于將測量光束投射到第二基底的目...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。