技術(shù)編號(hào)：2775421
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明，是涉及由透過具有設(shè)計(jì)圖案的掩膜的曝光光線向半導(dǎo)體襯底的主面復(fù)印設(shè)計(jì)圖案的。背景技術(shù) 近年，伴隨著MOS(金屬-氧化膜-半導(dǎo)體)型半導(dǎo)體裝置的精細(xì)化，對(duì)減小線幅(配線寬度)的精細(xì)加工提出了更強(qiáng)的要求。另一方面，光平板印刷技術(shù)的精細(xì)蝕刻圖案的形成技術(shù)對(duì)精細(xì)加工來講最為重要。精細(xì)圖案的形成，由曝光光線的波長(zhǎng)短波化和曝光頭的多開口化(多NA化)謀求解像度的提高是一般地做法。然而，曝光光線的波長(zhǎng)短波化和曝光頭的多開口化盡管對(duì)精細(xì)圖案的形成有利，但是因?yàn)槠毓夤?..
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。