技術(shù)編號：2775096
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種光學(xué)系統(tǒng)，它包括輻射源和位于所述輻射源附近的至少一個聚光器，該聚光器用于聚集所述輻射以提供輻射光束。背景技術(shù) 每一個光刻投影裝置都具有輻射源。輻射源提供照射能量。由于輻射源大部分是類似點(diǎn)狀的，因此通過輻射源發(fā)射的輻射具有高度發(fā)散性。因而聚光器用于將輻射聚焦為更加會聚的輻射光束。沒有被聚集的輻射意味著照射能量的損失。因此以盡可能大的立體角來聚集輻射非常重要。多層(ML)聚光器能夠以大于2πsr(然而實(shí)際的角度在1.4πsr到1.63πsr之間)...
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