技術(shù)編號：2774339
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光強(qiáng)調(diào)節(jié)系統(tǒng)，特別是一種反射式相位型焦點(diǎn)區(qū)域光強(qiáng)分布調(diào)節(jié)系統(tǒng)。主要用于光存儲(chǔ)系統(tǒng)、暗場光學(xué)顯微鏡、光鑷子和激光加工等光學(xué)系統(tǒng)。背景技術(shù)光學(xué)焦點(diǎn)區(qū)域的光強(qiáng)分布對一些光學(xué)系統(tǒng)是十分重要的。例如，在光存儲(chǔ)光學(xué)系統(tǒng)中，高密度光存儲(chǔ)要求光學(xué)系統(tǒng)中的光學(xué)焦點(diǎn)在橫向上的尺寸要??；在光軸方向上的尺寸要大，即具有較大焦深。暗場光學(xué)顯微鏡系統(tǒng)中，要求焦點(diǎn)在焦平面上的光斑光強(qiáng)分布均勻、對稱、大小可調(diào)。在光鑷子系統(tǒng)中，需要光強(qiáng)分布不均勻，可以產(chǎn)生光梯度力，形成穩(wěn)定的光陷...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。