技術(shù)編號(hào)：2772573
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光掩模數(shù)據(jù)處理技術(shù)，用以避免由于半導(dǎo)體制造工藝中步進(jìn)器的分辨力不足所造成的晶片圖形退化。特別地，本發(fā)明涉及在產(chǎn)生光掩模數(shù)據(jù)的幾何對(duì)象圖形中使用的掩模圖形產(chǎn)生方法和掩模圖形產(chǎn)生裝置。背景技術(shù) 在處理光掩模數(shù)據(jù)以避免晶片上圖形退化的光學(xué)鄰近校正(OPC)中，確保光掩模數(shù)據(jù)中定義的最小線寬和最小間隔是必不可少的。在現(xiàn)有的掩模CAD處理技術(shù)中，逐步地測(cè)量圖形線寬和圖形間隔。然后，根據(jù)校正表針對(duì)上述尺寸的每個(gè)值進(jìn)行計(jì)算。例如，如圖5所示，在確保最小圖形線寬...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。