技術(shù)編號：2770096
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種用于光學(xué)成像系統(tǒng)的光學(xué)測量的測量系統(tǒng)，該光學(xué)成像系統(tǒng)被提供以使得設(shè)置在該成像系統(tǒng)的目標(biāo)表面的圖形成像到該成像系統(tǒng)的圖像表面，該成像系統(tǒng)被設(shè)計為用于借助浸液成像的浸液系統(tǒng)，該浸液設(shè)置在成像系統(tǒng)的目標(biāo)側(cè)和圖像側(cè)中的至少一個上。背景技術(shù) 在許多技術(shù)和研究領(lǐng)域中，光學(xué)成像系統(tǒng)被使用，關(guān)于它們的成像質(zhì)量有越來越高的要求。一個例子是半導(dǎo)體元件和其它精細(xì)結(jié)構(gòu)元件的光刻生產(chǎn)，其中，借助于高功率的投影物鏡，在深紫外線范圍(DUV)的工作波長處，能生產(chǎn)亞微米范圍...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。