技術(shù)編號：2769064
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明是關(guān)于非常適合用在制造半導(dǎo)體元件等電子元件時的微影制程中測量形成于光罩或基板的標記位置的測量方法及測量裝置、以及藉由該測量方法來測量形成于光罩或基板的標記位置以進行曝光的曝光方法及曝光裝置。背景技術(shù) 在制造半導(dǎo)體元件、液晶顯示元件、CCD等攝影元件、電漿顯示器元件、薄膜磁頭等電子元件時，是使用曝光裝置，將形成于光罩或標線片(以下總稱為標線片)的微細圖案像投影曝光至涂布有光阻等感光劑的半導(dǎo)體晶圓或玻璃板等基板(以下稱為晶圓)上。此時，須以高精度定位(對...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。