技術(shù)編號：2768762
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及曝光系統(tǒng)，特別涉及在用于制作半導(dǎo)體的工藝過程中和光照射晶片表面的曝光系統(tǒng)。光學(xué)平版印刷術(shù)已經(jīng)使用了包括透射和反射鏡的反射折射系統(tǒng)。該反射折射系統(tǒng)包括單獨使用透鏡的系統(tǒng)和在主要部件部分中使用反射鏡的系統(tǒng)。在單獨使用透鏡的系統(tǒng)中，已經(jīng)進行了利用諸如氟化鈣等化合物的試驗，從而制成大約0．1pm的波長的窄帶寬。但是，由于帶寬具有不超過1pm的空間(room)，所以已廣泛發(fā)展部分采用反射鏡的系統(tǒng)。根據(jù)半導(dǎo)體的高度集成，在反射折射系統(tǒng)中，曝光光源的波長減小到...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。