技術(shù)編號：2768045
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明是關(guān)于一用于光刻工藝(lithographic process)的模擬的方法；特別是關(guān)于一種模擬采用半導(dǎo)體元件制造程序、發(fā)光晶體二極管(light crystal diode，LCD)制造程序，以及光(例如電子束或X射線)的光刻工藝的方法。即使光學的光刻工藝模擬技術(shù)的發(fā)展，晚于光學的光刻應(yīng)用在半導(dǎo)體工業(yè)的時間，但由于其優(yōu)良的效率擅長于單元布局的最佳化、復(fù)雜程序中最佳化條件的預(yù)期、或是在大量資料的快速處理，該技術(shù)已成為主要的必需方式，在一單位工藝過程或...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。