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基于散射測(cè)量數(shù)據(jù)確定工藝參數(shù)值的方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):2767918

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本發(fā)明涉及光刻裝置和方法。背景技術(shù) 光刻裝置是一種將期望的圖案施加到基板的靶部上的機(jī)器。光刻裝置可以用在例如集成電路(IC)的制作中。在此種情形中,可以用像掩模這樣的構(gòu)圖結(jié)構(gòu)來生成對(duì)應(yīng)于IC其單個(gè)層的電路圖案,然后將這樣的圖案成像在基板(例如,硅片)之上的靶部(例如,包括一個(gè)或多個(gè)電路小片的一部分)上,基板具有輻射敏感材料層(抗蝕劑)。通常,單個(gè)基板都包含有由相鄰靶部組成的網(wǎng)格,這些靶部要陸續(xù)進(jìn)行曝光。已知的光刻裝置包括通常所說的步進(jìn)器和通常所說的掃描器,...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。

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