技術(shù)編號(hào)：2767436
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及具有至少一個(gè)光導(dǎo)入面和至少一個(gè)光發(fā)射面以及至少一個(gè)光導(dǎo)層的光導(dǎo)體，其中，光發(fā)射面與光導(dǎo)入面的比例至少為4。背景技術(shù) 這種光導(dǎo)體本身公知。它可以是具有刻痕的透明板，光在這些刻痕上與傳輸方向正交輸出。這種光導(dǎo)體為EP 800 036的主題。但在刻痕均勻分布時(shí)，亮度隨著到發(fā)光器材的距離而下降。作為這一問題的解決辦法是在光導(dǎo)體上涂覆不均勻的表面結(jié)構(gòu)，其中，刻痕的密度隨著到發(fā)光器材的距離而增加。但是這種效果受到表面隨著時(shí)間變化出現(xiàn)損壞的影響。此外，大規(guī)格板...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。