技術(shù)編號(hào)：2766419
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明一般涉及一種用于制造半導(dǎo)體的光刻工藝中的能軸外照明標(biāo)度的標(biāo)度掩膜板，尤其涉及一種制備其間距比焦深窄的附加輔助圖形的標(biāo)度掩膜板，從而與其它間距相比容許這些間距與焦深相反或相等。在技術(shù)上光刻膠圖形的形成受各種因素的影響，如設(shè)備的精確度和光的波長，由于這些因素，使圖形在一定程度上不能更精細(xì)。例如采用象利用波長為436nm光作光源的G-線分步器，利用波長為365nm光作光源的I-線分步器，或利用波長為248nmKrF激元激光作光源的分步器，這些分步器具有線寬...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。