技術(shù)編號：2762475
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及具有測試圖案的模板(reticle)以及利用這種模板測量投影光學(xué)系統(tǒng)中的光學(xué)特征的光學(xué)特征測量方法。尤其是，本發(fā)明適合用于測量例如在光刻方法中使用的投影曝光設(shè)備的投影光學(xué)系統(tǒng)的諸如最佳焦點(diǎn)位置、象散、場曲率或者波前像差等光學(xué)特征，其中所述光刻方法是用于制造半導(dǎo)體器件、液晶顯示器、薄膜磁頭等的方法之一。背景技術(shù) 用于制造半導(dǎo)體器件、液晶顯示器或薄膜磁頭的光刻方法例如采用了投影曝光設(shè)備，在該設(shè)備中，光掩膜或模板(以下稱之為模板)的影像通過投影光學(xué)系統(tǒng)...
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