技術(shù)編號(hào)：2759618
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造，特別地涉及一種光刻對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)中對(duì)不同尺寸對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的對(duì)準(zhǔn)位置進(jìn)行修正的方法。背景技術(shù)光刻投影裝置是制造集成電路和/或其他微型設(shè)備的主要部件。借助于這種裝置，具有不同掩膜圖案的許多掩膜在精確對(duì)準(zhǔn)的位置順次成像到基底上，如半導(dǎo)體晶片或 IXD板?；妆仨氃诩航?jīng)彼此對(duì)準(zhǔn)的連續(xù)圖像之間經(jīng)歷理想的物理和化學(xué)變化。在基底用掩膜圖案曝光之后從裝置中移開，并且在基底經(jīng)歷理想的加工步驟之后，為了用第二掩膜圖案的像對(duì)其進(jìn)行曝光而將其放回，等等，但必須確保第二...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。