技術(shù)編號：2758896
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于納米壓印多層套刻對準(zhǔn)，涉及一種解決莫爾條紋對準(zhǔn)信號因 光刻膠工藝層帶來的圖像質(zhì)量下降問題的方法，尤其是一種提高壓印對準(zhǔn)過程中莫爾條紋 圖像質(zhì)量的數(shù)字莫爾條紋方法。背景技術(shù)壓印光刻以其高分辨率、高效率和低成本躋身于下一代16nm節(jié)點(diǎn)光刻技術(shù)的代 表之一(其工藝路線與傳統(tǒng)光刻的區(qū)別如圖1所示)，可以有效地解決傳統(tǒng)光刻由于圖形衍 射問題帶來的尺寸限制。盡管壓印光刻在圖形轉(zhuǎn)移方面具有高分辨率、高效率和低成本的 優(yōu)勢，要使之成為真正實(shí)用而有競爭性的微納制造...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。