技術(shù)編號：2757993
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及。 背景技術(shù)近年來，半導(dǎo)體器件的微細(xì)化進(jìn)展，利用曝光裝置進(jìn)行的圖案的轉(zhuǎn)印(解像)變得 困難。因此，在曝光裝置中，為了應(yīng)對半導(dǎo)體器件的微細(xì)化而使用變形照明和光鄰近效應(yīng)校 正(OPC)等超解像技術(shù)，進(jìn)行掩模圖案和對掩模進(jìn)行照明時的照明形狀(有效光源分布) 的最優(yōu)化。照明形狀(有效光源分布)是在照明光學(xué)系統(tǒng)的瞳面上形成的光強(qiáng)度分布，是 對掩模進(jìn)行照明的光的角度分布。在照明形狀的最優(yōu)化中，首先設(shè)定器件的布局圖案(目標(biāo)圖案)、轉(zhuǎn)印圖案(光學(xué) 像)的評價位置...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。