技術(shù)編號(hào)：2757405
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及普通光學(xué)和激光領(lǐng)域，尤其涉及晶體光學(xué)結(jié)構(gòu)器件。 背景技術(shù)在晶體器件中，尤其是非線晶體器件中，例如LBO晶體、BBO晶體等，這些晶體易微 潮解。因此，通常必須在這類晶體器件的晶體表面鍍保護(hù)膜或增透膜。然而晶體表面的膜層 也有可能發(fā)生損傷，尤其是像LBO晶體光學(xué)表面兩個(gè)方向熱膨脹系數(shù)通常為一正一負(fù)，特 別易使膜層損傷，嚴(yán)重降低非線性晶體損傷閾值。因此，如何提高光學(xué)晶體的損傷閾值，尤 其是這類易潮解的非線性晶體的損傷閾值一直是有待解決的技術(shù)難題。已有的...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。