技術編號：2755612
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種用于半導體工藝的光刻工藝，尤其是涉及一種二次曝光的方法， 其可延長光刻工藝中光源的壽命，但不影響電路的臨界尺度(criticaldimension，⑶)。背景技術光刻技術在集成電路芯片的制造中扮演重要的角色，而不斷改良的光學投影光刻工藝可使集成電路不斷細化。因此，可使集成電路產業(yè)制造出更符合成本效益且功能更強大的半導體裝置。在光學光刻工藝的領域中，以光敏材料涂布于硅晶片上且使之干燥。而后，使用曝光機，其以光源經由圖案化的光掩模在晶片上曝光。于...
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