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曝光裝置和器件制造方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):2753984

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本發(fā)明是關(guān)于在局部地以液體充滿投影光學(xué)系統(tǒng)的像面一側(cè)狀態(tài)用投影光學(xué)系 統(tǒng)投影的圖案像曝光的曝光裝置和使用該曝光裝置的器件制造方法。背景技術(shù)半導(dǎo)體器件和液晶顯示器件是通過(guò)把掩模上所形成的圖案復(fù)制到感光性襯底上 邊的所謂光刻方法而制造的。在這一光刻工序中使用的曝光裝置有支承掩模的掩模臺(tái)和支 承襯底的襯底臺(tái),通過(guò)投影光學(xué)系統(tǒng)一邊順序地移動(dòng)掩模臺(tái)和襯底臺(tái)一邊把掩模圖案復(fù)制 到襯底上的裝置。近年來(lái),為了與器件圖案的更進(jìn)一步高集成化相對(duì)應(yīng),希望更加提高投影 光學(xué)系統(tǒng)的...
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