技術(shù)編號(hào):2753984
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明是關(guān)于在局部地以液體充滿投影光學(xué)系統(tǒng)的像面一側(cè)狀態(tài)用投影光學(xué)系 統(tǒng)投影的圖案像曝光的曝光裝置和使用該曝光裝置的器件制造方法。背景技術(shù)半導(dǎo)體器件和液晶顯示器件是通過(guò)把掩模上所形成的圖案復(fù)制到感光性襯底上 邊的所謂光刻方法而制造的。在這一光刻工序中使用的曝光裝置有支承掩模的掩模臺(tái)和支 承襯底的襯底臺(tái),通過(guò)投影光學(xué)系統(tǒng)一邊順序地移動(dòng)掩模臺(tái)和襯底臺(tái)一邊把掩模圖案復(fù)制 到襯底上的裝置。近年來(lái),為了與器件圖案的更進(jìn)一步高集成化相對(duì)應(yīng),希望更加提高投影 光學(xué)系統(tǒng)的...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。